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ULTRA PURE WATER
 
일반적으로 Resistivity 10~18㏁/㎝까지의 순수를 말한다. 이 초 순수는 원자의 결합측정 연구(Enzine Studies) 및 유전공학 연구 등의 기초과학분야는 물론 반도체(Semiconductor), 화학 (Chemical)을 비롯한 High Technology산업에 이르기까지 광범위한 분야에 걸쳐 핵심적인 재료로 사용된다. 따라서 정교한 System에 의해 처리된 초 순수는 주위환경 및 조건에 의해 민감한 변화를 가져올 수 있으므로 이의 저장에 있어서 많은 주위가 요구된다. Storage Tank로 CO₂ 유입, 저장시간 및 면적에 따른 오염 가능성, 공기중의 미생물 침투현상 등을 제거시켜야 하며 이러한 조건들을 충족 시키기 위해서는 특수 제작 된 Storage Tank 의 사용이 바람직하다.
장치 구성
 
1)
전처리 UNIT : Clarifier, Press Filter, Fe Remover, Activated Carbon Filter, Safety Filter
2)
Ro UNIT : 사용목적과 수질, 수량에 따라 Tube형과 Spiral Pollow Bar형으로 구별된다.
3)
Final Polishing Unit(FPU)
① UV(자외선 살균장치) : 세균의 살균과 번식을 방지하기 위하여 설치
② CP(비 재생용 순수장치) : 초 순수장치에서 최종적으로 완전제거를 목적으로 설치
③ UF(한외여과장치) : Use Point 에 공급하는 초 순수중의 미립자를 최종적으로 제거하기 위한 목적으로설치
초순수 FLOW SHEET
 
Flow Sheet
반도체 수질기준
 
256KB
1MB
4MB
16MB
64M
저항(MΩ/Cm)
17~18
17.5~18
>18
>18.1
>18.2
Particles
EA/㎖
0.1㎛
50~150
10~20
<5
0.05㎛
<10
<5
<1
0.03㎛
<10
미생물(EA/ℓ)
50~200
10~50
<10
<1
<0.1
TOC(ppb)
50~100
30~50
<10
<2
<0.5
용존산소(ppb)
50~100
30~50
<50
<10
<1
이온(ppt)
Mn,Fe,Cu,Cl
~1000
100~500
<100
<10~50
<1