 |
|
| |
| 일반적으로
Resistivity 10~18㏁/㎝까지의 순수를 말한다. 이 초 순수는 원자의
결합측정 연구(Enzine Studies) 및 유전공학 연구 등의 기초과학분야는
물론 반도체(Semiconductor), 화학 (Chemical)을 비롯한 High
Technology산업에 이르기까지 광범위한 분야에 걸쳐 핵심적인 재료로 사용된다.
따라서 정교한 System에 의해 처리된 초 순수는 주위환경 및 조건에 의해 민감한
변화를 가져올 수 있으므로 이의 저장에 있어서 많은 주위가 요구된다. Storage
Tank로 CO₂ 유입, 저장시간 및 면적에 따른 오염 가능성, 공기중의 미생물
침투현상 등을 제거시켜야 하며 이러한 조건들을 충족 시키기 위해서는 특수 제작 된
Storage Tank 의 사용이 바람직하다. |
|
|
 |
|
| |
| 1) |
전처리 UNIT : Clarifier, Press Filter, Fe Remover, Activated Carbon Filter, Safety Filter |
| 2) |
Ro UNIT : 사용목적과 수질, 수량에 따라 Tube형과 Spiral Pollow Bar형으로 구별된다. |
| 3) |
Final
Polishing Unit(FPU) |
|
①
UV(자외선 살균장치) : 세균의 살균과 번식을 방지하기 위하여 설치 |
|
②
CP(비 재생용 순수장치) : 초 순수장치에서 최종적으로 완전제거를 목적으로
설치 |
|
③
UF(한외여과장치) : Use Point 에 공급하는 초 순수중의 미립자를 최종적으로
제거하기 위한 목적으로설치 |
|
|
 |
반도체 수질기준 |
| |
|
256KB |
1MB |
4MB |
16MB |
64M |
저항(MΩ/Cm) |
|
17.5~18 |
>18 |
>18.1 |
>18.2 |
Particles
EA/㎖ |
0.1㎛ |
|
10~20 |
<5 |
|
|
0.05㎛ |
|
|
<10 |
<5 |
<1 |
0.03㎛ |
|
|
|
|
<10 |
미생물(EA/ℓ) |
50~200 |
10~50 |
<10 |
<1 |
<0.1 |
TOC(ppb) |
50~100 |
30~50 |
<10 |
<2 |
<0.5 |
용존산소(ppb) |
50~100 |
30~50 |
<50 |
<10 |
<1 |
이온(ppt)
Mn,Fe,Cu,Cl |
~1000 |
100~500 |
<100 |
<10~50 |
<1 |
|
|
|
